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近日，有媒体报道称，精华大学化学系许华平教授团队，在EUV光刻胶上取得了重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶材料大牛配资，这种光刻胶材料，比现有的EUV光刻胶，具有更好的特性。 目前该成果，已经发表在核心期刊上，而这种材料和技术，为中国研发出EUV光刻胶，提供了可行路径，也就是说可能很快中国就会研发出自己的EUV光刻胶了。 要知道目前全球的EUV光刻胶，几乎都掌握在日本企业手中，不仅仅是EUV光刻机，先进的ArF光刻胶，也掌握在日本企业手中。 中国能够研发出来的光刻机，主要还是KrF光

当地时间周五正规股票配资门户网站，被称为日本“芯片国家队”的半导体制造商Rapidus举行发布会，宣布旗下工厂已经开始2nm全环绕栅极（GAA）晶体管的测试晶圆原型制作，同时确认早期的2nm测试晶圆已达到预期电气特性。 据悉，原型制作是半导体生产中的一个重要里程碑，旨在验证使用新技术制造的早期测试电路是否表现可靠、高效，并达到性能目标。 Rapidus社长小池淳义介绍称，去年12月拿到阿斯麦NXE:3800E EUV光刻机后，试点生产线于今年4月在北海道的IIM-1工厂启动。到6月时，工厂已经